2018年10月，三星宣布7纳米制程工艺芯片准备就绪，并开始投入生产，这是三星第一个采用EUV光刻技术的产品。该公司提供了业界第一个基于EUV的新产品的商业样品，并在今年年初开始大规模生产7纳米纳米工艺。

与7纳米相比，三星的5纳米FinFET工艺技术将逻辑面积效率提高了25%。由于工艺改进，功耗降低了20%、性能提高了10%，这使得三星能够拥有更具创新性的标准单元架构。

5纳米的另一个关键优点是，可以将7纳米的所有相关知识产权重用到5纳米工艺上。因此，7纳米客户向5纳米过渡将得以大幅降低迁移成本，拥有预先经过验证的设计生态系统，从而缩短其5纳米产品的开发周期。

由于三星铸造公司与其“三星高级铸造生态系统”（Samsung Advanced Foundry Ecosystem，简称SAFE）合作伙伴的密切合作，自2018年第四季度以来，三星的5纳米产品就拥有了强大的设计基础设施，包括工艺设计工具、设计方法（DM）、电子设计自动化（EDA）工具和IP。（小狐狸）

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