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南大光电逾10亿元投资落定 高端光刻胶国产化提速(3)
记者了解到，目前ArF(193nm)光刻胶研发和产业化工作仍在加快推进中，同时为了此次项目的开发，南大光电已完成了1500平方米研发中心的建设工作。下一步，公司将继续发展三大主营业务，提升国际市场竞争力。
对于本次投资，国海证券王凌涛撰文表示看好，“短期来看，我们认为公司的主要业绩支撑仍将是LED产能扩张叠加行业集中提升的双重驱动；此外公司高纯磷烷砷烷自推向市场以来也表现出不俗的增速，随着下游市场的打开及更多客户的导入，电子气体为公司带来的业绩增量不容小觑。”王凌涛表示，由于光刻工艺是集成电路制程的心脏，光刻机及与之配套的光刻胶共同决定了晶圆厂所能达到的制程高度，高端光刻胶国产化乃大势所趋，南大光电在我国大力推进半导体供应链国产自主的背景下果断积极切入，为公司的长期成长奠定坚实的基础。
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