（原标题：国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！）

高博

11月29日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言——《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……

笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会，写了报道，还算熟悉，无法苟同一些漫无边际的瞎扯。

中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

先解释下：光刻机不光是制造芯片用。一张平面（不论硅片还是什么材料）想刻出繁复的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。

为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度，投影就模糊了。要清晰投影，线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源，好刻10纳米以下的线条。

但稳定的、大功率的极紫外光源很难造，一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛，配合的光学和机械部件又极端精密，所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机，创造了“一台卖一亿美金”的神话。

十几年前，国际上开始对表面等离子体（surfaceplasma，SP）光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究，是较早出成果的一个团队。所谓SP，光电所的科学家杨勇向笔者解释：拿一块金属片和非金属片亲密接触，界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上，这些电子就有序地震荡，产生波长几十纳米的电磁波，可用来光刻。

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