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一财研选|半导体清洗设备需求持续增长,技术领导企业受益!

2018-08-03 09:12:50    第一财经  参与评论()人

TMR数据显示,2017年全球清洗机设备市场份额约30亿美元,2015~2020年CAGR预计为6.8%,整体呈现一个稳定增长的态势。海通证券指出,清洗设备市场增长的驱动力可以分为两部分,一方面根据摩尔定律,集成电路晶体管的线宽正在也会持续缩小,制程升级后清洗的频率需大幅提高,带来清洗设备量升;另一方面,为了进一步提高集成电路容量和性能,半导体结构开始3D化,此时清洗效果不能仅仅停留在表面,还需要在无损情况下清洗内部污染物,这带来了清洗设备的价升。

相对于国际巨头,中国清洗设备公司在规模、产品系列数和研发投入等的绝对值上有较大差距,但以盛美为代表的国内公司通过自我创新,实现了业界领先的差异化解决方案。在保持兆声波清洗效果好的优势前提下,有效地解决了清洗不均匀和晶片损伤的问题,在当前节点具备不输于国际大厂的工艺覆盖范围和清洗效果。

海通证券分析指出,以盛美半导体为例,按假设计算,若2020年盛美在单晶圆湿法清洗机的市占率能达到20%,整体的营收规模将达到4.48亿美元,未来发展的天花板很高。同时根据公司2018年5月的投资者会议,目前公司仅SAPS产品已有的客户2018/19年的清洗机需求量分别为136台和221台,若按照SAPS清洗机单台300万美元计算的话,潜在市场分别为4.08亿和6.63亿美元;如果按照目前的采购比例,2019年清洗机订单额有望接近一亿,这还不考虑TEBO和电镀铜设备的贡献。

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