2.光学显影：用于制造精细度类似于微生物的超高密度电路

3.“干式”微影技术：2001年前采用的主要技术，采用波长为157纳米，光刻时介质为空气

4.深紫外线（DUV，Deep Ultra-Violet): 林本坚，定义的光刻技术最短波长的光线

5.极紫外光刻技术（EUVL）

5.“浸润式”微影技术（Immersion Lightography）：最短波长已经达到10纳米、7纳米、5纳米，光刻时介质为水。

6.芯片分逻辑芯片和存储芯片。逻辑芯片又分为数字芯片和模拟芯片。模拟芯片中最难的是射频芯片。

7.ARM的三种知识产权授权模式：处理器授权、处理器优化包授权、架构授权

【摘要金句】

1.集成电路的发展注定离不开协同发展的“基因”

2.摩尔定律并不是自然规律，而是以微电子学位基础，集自然科学、高新技术、经济学 、社会学为一体的推测。

3.摩尔定律最大的作用是成为集成电路和相关行业发展的激励信条。

【美国半导体工业联盟和半导体研究联盟：行业未来14个关键领域】

1.先进得材料、器件和封装

2.互联的技术与架构

3.智能内存与存储

4.电源功率管理

5.传感和通信系统

6.分布式计算和网络

7.认知计算

8.仿生计算和存储

9.先进的架构及算法

10.安全与隐私

11.设计工具、方法和测试

12.下一代制造模式

13.环保、安全的材料和工艺

14.创新的检测方法

【备注】

新浪微博@老杳 ，老杳吧创始人，是中国科技大学博士，曾就职于联想集团、普天集团及信息产业部从事IPTV、智能手机及集成电路等业务，北京四海雍智半导体测试技术有限公司总经理，中国软件行业协会嵌入式系统分会副秘书长。

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